一、檢出限

ICP-MS的檢出限給人極深刻的印象,其溶液的檢出限大部份為ppt級(jí)(必需記牢,實(shí)際的檢出限不可能優(yōu)于你實(shí)驗(yàn)室的清潔條件),石墨爐AAS的檢出限為亞ppb級(jí), ICP-OES大部份元素的檢出限為

1~10ppb,-元素在潔凈的試樣中可得到令 人注目的亞ppb級(jí)的檢出限。必須指出, ICP-MS的ppt級(jí)檢出限 是針對(duì)溶液中溶解物質(zhì)很少的單純?nèi)芤憾缘?，若涉及固體中濃度的檢出限，由于ICP-

MS的耐鹽量較差, ICP-MS檢出限的優(yōu)點(diǎn)會(huì)變差多達(dá)50倍，一些普通的輕元素(如S、 Ca、 Fe、 K、Se)在ICP-MS中有嚴(yán)重的干擾， 也將惡化其檢出限。

二、干擾

以上三種技術(shù)呈現(xiàn)了不同類型及復(fù)雜的干擾問題,為此,我們對(duì)每個(gè)技術(shù)分別予以討論。

ICP-MS的干擾:質(zhì)譜干擾、基體酸干擾、雙電荷離子干擾、基體效應(yīng)、電離干擾、空間電荷效應(yīng)。

ICP-OES干擾:光譜干擾、基體效應(yīng)、電離干擾。

GFAAS干擾:光譜干擾、背景干擾、氣相干擾、基體效應(yīng)。