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同軸光光源用一段時(shí)間后，發(fā)生圖像自動(dòng)變亮現象

原因分析或解決辦法

影響圖片亮度因素有：

光源控制器；視覺(jué)程序調用相機參數變亮；同軸光表面反光鏡和防塵片臟污；

解決辦法：

1.將光源控制器（模擬）旋鈕調節至*大，過(guò)一段時(shí)間后仍然變亮，排除原因；

2.查看視覺(jué)程序調用的參數，變亮前和變亮后一樣，排除原因；

3.同軸光分光鏡或防塵片表面臟污引起，變亮后，用無(wú)塵布擦去光源表面的臟污，變暗，確定原因。

同軸光為什么叫同軸光：

光源通過(guò)漫射板發(fā)散打到半透半反射分光片上，該分光片將光反射到物體上，再由物體反射到鏡頭中。由于物體反射后的光與相機處于同一個(gè)軸線(xiàn)上，此種方式的光源被稱(chēng)之為同軸光。

分光鏡：

分光片在表面上鍍了一層特殊的膜（多層介電膜真空蒸鍍），使得入射光可以反射一半透射一半，從而把一束光分為反射的一束，和透射的一束，形成兩束光。

CNC車(chē)間機床加工，存在大量粉塵，當分光鏡上表面布上灰塵之后，反射到產(chǎn)品表面的光束變多，導致反射到鏡頭的光束增多造成圖像變亮。

防塵片：

遮擋來(lái)自空氣中的臟污粉塵，避免粉塵掉落到分光鏡上引起發(fā)光不均勻情況；

1.反光鏡的工藝：

多層介電膜通過(guò)真空蒸鍍形成

介電膜：用濺射法在基片上沉積的以金屬鉭為基的介電薄膜材料。

真空蒸鍍：

蒸鍍的物理過(guò)程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著(zhù)在基片表面形核、長(cháng)大成固體薄膜→薄膜原子重構或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。將基片放入真空室內，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團）。氣態(tài)粒子以基本無(wú)碰撞的直線(xiàn)運動(dòng)飛速傳送至基片，到達基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團，有的可能在表面短時(shí)停留后又蒸發(fā)。粒子簇團不斷地與擴散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過(guò)程反復進(jìn)行，當聚集的粒子數超過(guò)某一臨界值時(shí)就變?yōu)榉€定的核，再繼續吸附擴散粒子而逐步長(cháng)大，*終通過(guò)相鄰穩定核的接觸、合并，形成連續薄膜。